美光與佳能合作,奈米半導體印刷技術革新DRAM生產
美國知名儲存器生產商美光(Micron)宣佈計劃支援日本著名科技企業佳能(Canon)的奈米半導體印刷技術,以進一步最佳化DRAM記憶體的生產成本。根據外媒報道,美光最近進行了一次宣講會,詳細介紹了納米半導體印刷技術在DRAM製程中的應用,包括DRAM層的製作和沉浸式曝光解析度,即Chop層數的逐漸增加,需要增加更多曝光步驟來消除密集記憶體陣列周圍的虛假結構(dummy structures)。
由於光學系統的特性,使用光學曝光難以精確繪製DRAM層的圖案,而奈米半導體印刷技術則可以更加精細地列印圖案。根據美光的介紹,奈米半導體印刷的成本僅為沉浸式曝光的20%,因此是一種非常具有潛力的解決方案。需要指出的是,奈米半導體印刷技術並不能完全取代傳統的曝光技術,二者之間並非簡單的競爭關係,但至少可以降低單一技術操作的成本。
佳能預計在2023年10月推出FPA-1200NZ2C奈米半導體印刷(NIL)裝置,佳能的社長御手洗富士夫表示,奈米半導體印刷技術的問世將為小型半導體制造商提供生產先進晶片的全新途徑。半導體裝置業務經理巖本和德指出,奈米半導體印刷技術是指將半導體電路圖壓印在晶圓上,透過一個簡單的印記,在適當位置形成複雜的2D或3D電路圖,這種技術甚至可以生產出2奈米尺度的晶片。
參考閱讀:
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