華麗登場的High-NA EUV光刻機:ASML引領新一波技術浪潮
近日,ASML公司宣佈已經收到來自全球多家領先半導體公司的10至20臺High-NA EUV光刻機訂單,這款價值高達3.8億美元的新裝置正引領著半導體生產技術的革新浪潮。具有高數值孔徑和每小時生產超過200片晶圓的High-NA EUV光刻機,被譽為未來3nm以下晶片製造的重要工具。
High-NA EUV光刻機走俏市場
ASML高層透露,一臺High-NA EUV光刻機的價格超過了現有EUV光刻機的兩倍,但這並沒有阻止英特爾和SK海力士等公司的訂單熱情。ASML計劃在未來幾年內每年生產20臺High-NA EUV光刻機,以滿足市場的不斷增長需求。這款新裝置的誕生,將為半導體行業帶來更高的解析度和更小的電晶體特徵,開啟了一場半導體技術的新篇章。
Hyper-NA EUV光刻機:技術革新之路
隨著High-NA EUV光刻機的逐步交付,ASML開始探索下一代Hyper-NA EUV光刻機的可行性。Hyper-NA技術將成為2030年之後的新願景,為半導體生產帶來更大的可能性。ASML首席技術官Martin van den Brink表示,High-NA技術將不斷推動整體EUV能力平臺的發展,實現更為精細的半導體制造,為行業帶來更多新機遇。
臺積電產能暴漲:2nm生產線即將啟動
另一方面,全球龍頭晶片代工企業臺積電的3nm製程產能大幅攀升,產量佔比的提升為公司2024年的業績凝聚了強大動力。據悉,臺積電的4/5nm工藝產能利用率已接近滿載,3nm工藝的訂單量也遠超預期。同時,臺積電正積極推進2nm產線,預計將於2024年第四季度開始試產。未來,臺積電將與蘋果、英特爾、高通等多家客戶展開合作,共同探索半導體制造領域的新技術進展。
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